中科白癜风医院康复经历分享 http://finance.sina.com.cn/roll/20091013/13423077735.shtml
钒靶材与其源材料共享属性。钒是一种银灰色的金属，密度为6.11g/cm3，熔点为±2℃，属于高熔点稀有金属之列.在集成电路制作中一般用纯金作表面导电层，但金与硅晶圆容易生成ausi低熔点化合物，导致金与硅界面粘结不牢固，于是在金和硅晶圆的表面增加一粘结层，常用纯镍作粘结层，但镍层和金导电层之间也会形成扩散，因此需要再有一阻挡层，来防止金导电层和镍粘结层之间的扩散。阻挡层需要采用熔点高的金属，还要承受较大的电流密度，高纯金属钒能满足了这一要求。高纯金属钒还具有良好的可塑性，在常温下可轧成片、箔和拉成丝。钒靶材特征钒靶材形状：平面靶旋转靶异型定制钒靶材纯度：2N、3N钒靶材尺寸：按图纸加工或其他者定制我们还可以提供钒丝、钒片、钒棒、钒粒、铁粉等钒靶材制备工艺1、将所需纯度钒铸锭依据目标尺寸，采用卧式锯床进行切割处理，先在-℃下预热，再进行锻造，并控制锻造的总变形率为70-80％；
2、将锻造得到的钒铸锭进行退火处理，退火的温度为-℃，保温时间为60-min，然后采用空冷进行冷却；
3、将退火得到的钒铸锭进行轧制，并控制每道次的下压量0.5-1mm，控制总变形量为70-80％，直至得到所需直径和厚度的钒靶坯；
4、将轧制得到的钒靶坯进行再次退火处理，再次退火的温度为-℃，保温时间为90-min，再次退火之后进行水冷，得到所需高纯钒靶坯。
此制备得到的钒靶坯不仅内部结构均匀，还具有晶粒细小的优点，下图是钒溅射靶材的两种典型的显微金相检测图片，平均粒径um。
钒靶材靶材应用用于太阳能、平板显示器、电子及半导体等领域，如集成电路、背板金属化、光电子等应用。
#溅射靶材#
金属钒其他应用钒的其他主要用途是合金，尤其是钢。生产的钒中有85%用于钢，10%用于钛合金，5%用于所有其他用途。最重要的工业钒化合物五氧化二钒用作生产硫酸的催化剂。用于储能的钒氧化还原电池可能是未来的重要应用。钒靶材合金系列除钒靶材外，我们还可以提供镍钒合金、钴钒合金、钛铝钒合金、铁钒锗合金、钴铁钒硅合金、五氧化二钒等溅射靶材。
